Ionization Processes and Plasma Chemistry in Pulsed RF Glow Discharge TOF Mass Spectroscopy for Thin Film Depth Profile Analyses

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Ionizační procesy a plazmová chemie v pulzním RF výboji TOF hmotnostního spektrometru užitá pro hloubkové profily tenkých vrstev
Autoři	GROZA A. SURMEIAN A. DIPLASU C. TEMPEZ A. CHAPON P. LOBO L. BORDEL L. SCHMIDTOVÁ Tereza VAŠINA Petr BELENGUER P. NELIS T. GUILLOT P. TUCCITO N. LICCIARDELLO A.
Rok publikování	2008
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Book of Abstracts, Second Central European Symposium on Plasma Chemistry
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	depth profiles; TOF spectrometry
Popis	Ionizační procesy a plazmová chemie v pulzním RF výboji TOF hmotnostního spektrometru užitá pro hloubkové profily tenkých vrstev, sborník
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek