Structure and properties of DLC/SiOx films deposited in CW and pulsed plasma

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Struktura a vlastnosti DLC/SiOx vrstev připravených v CW a pulzním plazmatu
Autoři	GRANIER A. BEGOU T. DUQUENNE C. DJOUADI M.A. FENG X. BURŠÍKOVÁ Vilma ZAJÍČKOVÁ Lenka
Rok publikování	2007
Druh	Článek ve sborníku
Konference	18th International Symposium on Plasma Chemistry, Abstracts and Full-Papers CD
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova	DLC;PECVD;HMDSO;mechanical properties
Popis	Struktura a vlastnosti DLC/SiOx vrstev připravených v CW a pulzním plazmatu
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Víceúrovňové studium vztahů mezi mechanickými a mikrostrukturními charakteristikami materiálů Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie