Comparison of the ionization efficiency of two ionized physical vapour deposition processes: magnetron discharge assisted by microwave plasma or radio-frequency plasma

• Název česky: Srovnani ionizacni ucinnosti dvou IPVD procesu: magnetronoveho vyboje s dodatecnym mikrovlnnym nebo RF vybojem
• Autoři: DE POUSQUES Ludovic; IMBERT Jean-Christiphe; VAŠINA Petr; BOISSE-LAPORTE Caroline; TEULE-GAY Lionel; TOUZEAU Michel
• Rok publikování: 2004
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Prosseding of Ninth International Conference on Plasma Surface Engineering
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: IPVD; microwave; RF; magnetron
• Popis: Cilem teto prace je srovnat dva IPVD procesu, zejmena ionizacni potencial kazdeho z nich

Související projekty

• Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu
• Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek