Electrical Properties of SiOxHyCz Coatings Prepared by PECVD
| Název česky | Elektrické vlastnosti vrstev SiOxHyCz připravených PECVD |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2005 |
| Druh | Článek ve sborníku |
| Konference | 15th Symposium on Aplications of Plasma Processes |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
| Klíčová slova | thin films; electrical properties |
| Popis | U MIM struktur můžeme pozorovat dva druhy elektrické vodivosti, které můžou být buď limitované elektrodami (Schottyho amise, tunelování) a nebo procesy zapřičiněné objemovými procesy v dielektriku (Poole-Frenkelova vodivost). Vrsvy připravené PECVD vykazují Poole-Frenkelovu vodivost při nižších napětích a při vyšších vykazují tunelování. |
| Související projekty: |