Rf sputtering of composite SiOx/plasma polymer films and their basic properties

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	CHOUKOUROV A. PIHOSH Y. STELMASHUK V. BIEDERMAN Hynek SLAVÍNSKÁ D. KORMUNDA M. ZAJÍČKOVÁ Lenka
Rok publikování	2002
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Surface & coatings technology
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	Rf magnetron; sputtering; SiOx; plasma polymer films
Popis	Rf sputtering of composite SiOx/plasma polymer films and their basic properties
Související projekty:	Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek