Deposition of DLC:Si(O) Films in Low Pressure Discharges

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma PEŘINA Vratislav MACKOVÁ Anna JANČA Jan
Rok publikování	2001
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Proceedings of 13th Symposium on Application of Plasma Processes
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	DLC; Plasma Enhanced CVD; RF Discharges;
Popis	Study of the properties of silicon doped DLC films deposited in rf low pressure discharges. Investigation of the influence of the deposition parameters on the film properties.
Související projekty:	Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek