Low temperature temporal and spatial atomic layer deposition of TiO2 films

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	AGHAEE Morteza MAYDANNIK Philipp JOHANSSON Petri KUUSIPALO Jurkka CREATORE Mariadriana HOMOLA Tomáš CAMERON David Campbell
Rok publikování	2015
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Journal of Vacuum Science & Technology A
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
www	http://scitation.aip.org/content/avs/journal/jvsta/33/4/10.1116/1.4922588
Doi	https://doi.org/10.1116/1.4922588
Obor	Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova	ALD
Popis	Titanium dioxide films were grown by atomic layer deposition (ALD) using titanium tetraisopropoxide as a titanium precursor and water, ozone, or oxygen plasma as coreactants.
Související projekty:	CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy