Zařízení pro měření tloušťky polovodičových vrstevnatých struktur SOI

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	MÜNZ Filip HUMLÍČEK Josef
Rok publikování	2014
Druh	Výsledky s právní ochranou
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
www	http://spisy.upv.cz/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0027/uv027013.pdf
Popis	Technické řešení se týká zařízení pro měření tloušťky polovodičových vrstevnatých struktur SOI optickou metodou ve VIS/NIR oblasti s přesností cca 30 nm v rozsahu 1-10 mikrometrů; zahrnuje zdroj záření, optická vlákna, skener, spektrometr, řídící elektroniku a počítač.
Související projekty:	Struktury SOI pro pokročilé polovodičové aplikace