Application of higher harmonic frequencies generated in RF plasmas for monitoring of deposition processes

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Aplikace vyšších harmonických frekvencí vznikajících ve vf. plazmatu pro monitorování depozičních procesů
Autoři	DVOŘÁK Pavel ŽEMLIČKA Radek VAŠINA Petr BURŠÍKOVÁ Vilma
Rok publikování	2011
Druh	Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Popis	Analýza vyšších harmonických frekvencí vznikajících ve vf. plazmatu s ohledem na jejich využití při monitorování plazmových procesů.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích