X-RAY LAUE DIFFRACTION STUDY OF OXYGEN PRECIPITATES IN CZOCHRALSKI SILICON

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Studie kyslíkových precipitátů v Czochralského křemíku pomocí rtg Laueho dofrakce
Autoři	RŮŽIČKA Jiří MEDUŇA Mojmír
Rok publikování	2011
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Materials Structure in Chemistry, Biology, Physics and Technology
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova	Czochralski silicon; oxygen precipitates; x-ray Laue diffraction; statistical dynamical theory of diffraction
Popis	V prezentovaném článku jsme studovali kyslíkové precipitáty pomocí rtg difrakce v Laueho geometrii.
Související projekty:	Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur Nukleace a růst kyslíkových precipiátů v křemíku Struktura, elektronová struktura a optická odezva pokročilých materiálů