Mechanical Properties of Ultrananocrystalline Thin Films Deposited Using Dual Frequency Discharges
| Název česky | Mechanické vlastnosti ultrananokrystalickýh tenkých vrstev deponovaných pomocí dvoufrekvenčního výboje |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2011 |
| Druh | Článek v odborném periodiku |
| Časopis / Zdroj | CHEMICKÉ LISTY |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| www | http://www.chemicke-listy.cz/docs/full/2011_14_s98-s101.pdf |
| Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
| Klíčová slova | ultrananocrystalline diamond; plasma enhanced chemical vapor deposition; dual frequency discharge; local mechanical properties |
| Popis | Práce popisuje depozici nanostrukturních diamantových vrstev s nízkou povrchovou drsností, vysokou tvrdostí a odolností vůči zlomu. Ta byla prováděna metodou mikrovlného PECVD v reaktoru typu ASTeX. Užitými plyny byly vodík a metan |
| Související projekty: |
|