Monitoring of PVD, PECVD and etching plasmas using Fourier components of RF voltage

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Monitoruvání PVD, PECVD a leptacích plazmových procesů pomocí Fourierových komponent vf. napětí
Autoři	DVOŘÁK Pavel VAŠINA Petr BURŠÍKOVÁ Vilma ŽEMLIČKA Radek
Rok publikování	2010
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Plasma Physics and Controlled Fusion
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
www	https://iopscience.iop.org/article/10.1088/0741-3335/52/12/124011
Doi	https://doi.org/10.1088/0741-3335/52/12/124011
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	plasma; higher harmonic frequencies; capacitively coupled discharge; reactive magnetron sputtering; DLC
Popis	Fourierovy složky výbojového napětí a napětí nekompenzované sondy byly použity k monitorování dvou různých depozičních procesů. Byly testovány fyzikální důvody reakce Fourierových složek na přítomnost vrstvy.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev