Behaviour of Hybrid PVD-PECVD in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering.

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Chování hybridního PVD-PECVD procesu ve srovnání s tradičním reaktivním magnetronovým naprašováním.
Autoři	SCHMIDTOVÁ Tereza VAŠINA Petr
Rok publikování	2010
Druh	Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Popis	Behaviour of Hybrid PVD-PECVD Process in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering. Modelling of hybrid PVD-PECVd process.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace