Modelling of the reactive sputtering process with non-uniform discharge current density and different temperature conditions

• Název česky: Modelování magnetronového naprašování s nerovnoměrnou proudovou hustotou a různými teplotními podmínkami
• Autoři: VAŠINA Petr; SCHMIDTOVÁ Tereza; ELIÁŠ Marek
• Rok publikování: 2009
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Plasma Sources Science and Technology
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: magnetron sputtering; reactive; Berg
• Popis: Modelování magnetronového naprašování s nerovnoměrnou proudovou hustotou a různými teplotními podmínkami, článek

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev