Modelling of the reactive sputtering process with non-uniform discharge current density and different temperature conditions

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Modelování magnetronového naprašování s nerovnoměrnou proudovou hustotou a různými teplotními podmínkami
Autoři	VAŠINA Petr SCHMIDTOVÁ Tereza ELIÁŠ Marek
Rok publikování	2009
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Plasma Sources Science and Technology
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	magnetron sputtering; reactive; Berg
Popis	Modelování magnetronového naprašování s nerovnoměrnou proudovou hustotou a různými teplotními podmínkami, článek
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev