Is it possible to control degree of target poisoning during RF reactive magnetron sputtering by higher harmonic frequencies of discharge voltage?

• Název česky: Lze kontrolovat otravu terče při magnetronovém naprašování pomocí vyšších harmonických frekvencí výbojového napětí?
• Autoři: VAŠINA Petr; DVOŘÁK Pavel
• Rok publikování: 2009
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8 - Book of abstracts
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron
• Popis: Kontrola otrávení terče při magnetronovém naprašování pomocí vyšších harmonických frekvencí napětí.

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev