Adhesion of Rhodococcus sp. S3E2 and Rhodococcus sp. S3E3 to plasma prepared Teflon-like and organosilicon surfaces

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Adheze Rhodococcus SP.S3E2 and Rhodococcus SP.S3E3 k plazmatem připravenému teflonu podobnému povrchu a organosilikonovým povrchům
Autoři	LEHOCKÝ Marian SŤAHEL Pavel KOUTNÝ Marek ČECH Jan INSTITORIS Jakub MRÁČEK Aleš
Rok publikování	2008
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Journal of Materials Processing Technology
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	Rhodococcus; Plasma deposition; Cell adhesion; Barrier discharge; Thin films
Popis	Studium adheze Rhodococcus SP.S3E2 and Rhodococcus SP.S3E3 k hydrofobním teflonu podobným vrstvám a organosilikonovým vrstvám deponovaným na papír.
Související projekty:	Plazmochemická modifikace přírodních polymerů na bázi celulózy v povrchovém nebo koplanárním bariérovém výboji za atmosférického tlaku Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek