Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control the RF sputtering deposition process

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Analýza harmonických složek napětí v plazmatu jako nástroj kontrolu vf. naprašování
Autoři	VAŠINA Petr DVOŘÁK Pavel
Rok publikování	2009
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Europhysics Letters
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron
Popis	Popis velmi citlivé metody monitorování stavu vysokofrekvenčního reaktivního magnetronového naprašování pomocí sledování amplitud vyšších harmonických frekvencí generovaných výbojem.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev