Nanoindentation studies on amorphous carbon films prepared using plasma enchanced chemical vapor deposition

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	BURSIKOVA Vilma VALTR Miroslav KLAPETEL Petr BURSIK Jiri BLAHOVA Olga OHLIDAL Ivan
Rok publikování	2008
Druh	Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Popis	In the past two decades, there is a great industrial interest in preparation of amorphous hydrogenated carbon (a-C:H) thin films in a wide range of applications such as nanoelectronics, optical devices, integrated digital circuits, micro-electromechanical devices (MEMs), biomedical coatings, etc. The mechanical properties such as hardness, wear resistance, fracture toughness, film-substrate adhesion, thermo-mechanical stability of the coating-substrate system play always a crucial role for industrial applications of the films.
Související projekty:	Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie