Influence of N2 and CH4 on depositon rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering

• Název česky: Vliv N2 a CH4 na rychlost růstu borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním
• Autoři: ELIÁŠ Marek; SOUČEK Pavel; VAŠINA Petr
• Rok publikování: 2008
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Chemické listy
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• www: http://www.chemicke-listy.cz/ojs3/index.php/chemicke-listy/article/view/4322/4267
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: hysteresis; reactive sputtering; hybrid deposition process
• Popis: Vliv N2 a CH4 na rychlost růstu borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním, článek, mezioborova studie

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev