Influence of N2 and CH4 on deposition rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering

• Název česky: Vliv N2 a CH4 na depozicní rychlos borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním
• Autoři: ELIÁŠ Marek; SOUČEK Pavel; VAŠINA Petr
• Rok publikování: 2008
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Book of Extended Abstracts of 2nd Central European Symposium on Plasma Chemistry
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: hybrid deposition process; hysteresis
• Popis: Vliv N2 a CH4 na depozicní rychlos borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním, sborník

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev