DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE HOMOGENOUS DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHEREIN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE HOMOGENOUS DISCHARGE IN N2 + HMDSO + O2 ATMOSPHERE
Autoři	STUDNIČKA Filip TRUNEC David SŤAHEL Pavel BURŠÍKOVÁ Vilma KELAR Lukáš
Rok publikování	2008
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Chemické Listy, II Central European Symposium on Plasma Chemistry 2008
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	plasma deposition
Popis	Článek se zabývá depozicí tenkých vrstev v atmosférickém homogenním výboji ve směsi N2 + HMDSO + O2. Mechanické vlastnosti tenkých vrstev byly změřeny metodou indentační a tvrdost vrstev byla v rozmezí 0.5 až 7 GPa v závislosti na depozičních podmínkách.
Související projekty:	Depozice tenkých vrstev v dielektrických bariérových výbojích za atmosférického tlaku