Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control RF sputtering deposition process

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Kontrola reaktivního naprašování pomocí analýzy harmonických frekvencí napětí vf. výboje
Autoři	DVOŘÁK Pavel VAŠINA Petr
Rok publikování	2008
Druh	Článek ve sborníku
Konference	19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
www	http://www.escampig2008.csic.es/
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	magnetron; reactive sputtering; plasma; discharge; higher harmonics;
Popis	Kontrola reaktivního magnetronového naprašování pomocí měření základní a vyšších harmonických frekvencí výbojových napětí.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev