Plasma enhanced CVD of thin films using hexamethyldisiloxane and octamethyltetrasiloxane monomers

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Plazmochemická depozice vrstev z hexametyldisiloxanu a oktametyltetrasiloxanu
Autoři	ZAJÍČKOVÁ Lenka KUČEROVÁ Zuzana FRANTA Daniel BURŠÍKOVÁ Vilma BURŠÍK Jiří SŤAHEL Pavel KLAPETEK Petr
Rok publikování	2007
Druh	Článek ve sborníku
Konference	18th International Symposium on Plasma Chemistry
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	PECVD; HMDSO; OMCTS
Popis	Siloxanové polymery
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou