Model of reactive magnetron sputtering process with non-uniform discharge current density

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Model reaktivního magnetronového naprašování s nerovnoměrnou proudovou hustotou
Autoři	VAŠINA Petr HYTKOVÁ Tereza ELIÁŠ Marek
Rok publikování	2007
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Proceeding of XXVIII International Conference on Phenomena in Ionized Gases
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	magnetron sputtering; reactive; Berg
Popis	Model reaktivního magnetronového naprašování s nerovnoměrnou proudovou hustotou, sborník
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium kinetických procesů v dohasínajícím dusíkovém plazmatu s ohledem na jejich využití v chemické analýze