Organosilicon thin films deposited by plasma enhanced CVD: Thermal changes of chemical structure and mechanical properties

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Organosilikonové tenké vrstvy připravené metodou PECVD: termálně indukované změny chemické struktury a mechanických vlastností
Autoři	ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma KUČEROVÁ Zuzana FRANCLOVÁ Jana SŤAHEL Pavel PEŘINA Vratislav MACKOVÁ Anna
Rok publikování	2007
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Journal of Physics and Chemistry of Solids
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	Thin films;Organometallic compounds;Plasma deposition;Infrared spectroscopy;Mechanical properties
Popis	Tenké organosilikonové vrstvy a vrstvy oxidu křemíku byly deponovány ve v.f. kapacitně vázaném výboji ze směsi HMDSO s kyslíkem
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou