Optical Emission Spectroscopy in HMDSO/O2 RF Glow Discharge
| Název česky | Optická emisní spektroskopie v HMDSO/O2 vysokofrekvenčních doutnavých výbojích |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2005 |
| Druh | Článek ve sborníku |
| Konference | WDS'05 Proceedings of Contributed Papers, Part II |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| www | http://www.mff.cuni.cz/veda/konference/wds/contents/wds05.htm |
| Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
| Klíčová slova | Optical emission spectroscopy; hexamethyldisiloxane; oxygen; deposition |
| Popis | Použili jsme optickou emisní spektroskopii ke studování HMDSO/O2 plazmatu a detegovali emisní čáry a pásy těchto částic:CO, CO2+, OH, CH, H, H2, O, N2 a Ar jako aktinomeru. Pozorovali jsme jen velmi slabou emisi pro Si a SiO. S rostoucím (vysokofrekvenčním) výkonem jsme pozorovali rostoucí intezitu emise, způsobenou zřejmě rostoucí elektronové koncentraci. Což bylo potvrzeno koncentraci radikálů pomocí aktinometrie. Změny v procentuálním zastoupení HMDSO nemají značný vliv na složení plynu. Molekuly obsahující kyslík (Co, OH) mají společné maximum pro 16% HMDSO. CH a H mají také podobné trendy s maximem okolo 28%. Naproti tomu intenzita H2 molekuly roste s rostoucím zastoupením HMDSO. Atomární čára kyslíku naopak klesá. |
| Související projekty: |