Deposition of Hard carbon films and Its Diagnostics

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	FRGALA Zdeněk KUDRLE Vít JANČA Jan
Rok publikování	2003
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Proceedings of the XIVth SAPP
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	Diamond; microwave plasma CVD
Popis	We studied the growth of microcrystalline diamond films on pre-treated Si and WC-Co substrates by microwave plasma chemical vapour deposition (MPCVD). The pre-treatment was varied and its effect on diamond film was studied.
Související projekty:	Studium plazmochemických procesů pomocí mikrovlnné a optické spektroskopie Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek