Film deposition in Parallel Plate RF Discharges Containing Hydrocarbons

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	BIBINOV Nikita KUDRLE Vít ZAJÍČKOVÁ Lenka DONKO Zoltan WIESEMANN Klaus
Rok publikování	2003
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Proceedings of ISPC 14
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	PECVD; negative ions; acethylene
Popis	Film deposition in Paralle Plate RF Discharges Containing Hydrocarbons
Související projekty:	Studium plazmochemických procesů pomocí mikrovlnné a optické spektroskopie Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek