Diamond Growth on silicon and WC-Co by microwave plasma chemical vapor deposition

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Fakultu informatiky. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	FRGALA Zdeněk KUDRLE Vít JANČA Jan BURŠÍKOVÁ Vilma VAŠINA Petr MEŠKO Marcel BURŠÍK Jiří KADLEČÍKOVÁ M. KLAPETEK Petr
Rok publikování	2003
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Proceedings of contributed papers WDS'03
Fakulta / Pracoviště MU	Fakulta informatiky
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	PECVD; diamond; WC; raman spectra; SEM
Popis	Diamond Growth on silicon and WC=Co by microwave plasma chemical vapor deposition
Související projekty:	Studium plazmochemických procesů pomocí mikrovlnné a optické spektroskopie Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek