Hard carbon films: Deposition and diagnostics

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Fakultu informatiky. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	FRGALA Zdeněk KUDRLE Vít JANČA Jan MEŠKO Marcel ELIÁŠ Marek BURŠÍK Jiří
Rok publikování	2003
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Acta Physica Slovaca
Fakulta / Pracoviště MU	Fakulta informatiky
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	Diamond; microwave plasma CVD
Přiložené soubory	385.pdf
Popis	We studied the growth of microcrystalline diamond films on pre-treated Si and WC-Co substrates by microwave plasma chemical vapour deposition (MPCVD). The pre-treatment was varied and its effect on diamond film was studied.
Související projekty:	Studium plazmochemických procesů pomocí mikrovlnné a optické spektroskopie Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek