Deposition Process Based on Organosilicon Precursors in Dielectric Barrier Discharges at Atmospheric Pressure - A Comparison

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	SONNENFELD Axel TUN T. M. ZAJÍČKOVÁ Lenka KOZLOV K. V. WAGNER H.-E. BEHNKE J. F. HIPPLER R.
Rok publikování	2001
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Plasmas and Polymers
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	DBD
Popis	Deposition Process Based on Organosilicon Precursors in Dielectric Barrier Discharges at Atmospheric Pressure - A Comparison
Související projekty:	Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu