Characterization of CNx/SiOy Films Prepared by the Inductively Coupled RF Discharge

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	ELIÁŠ Marek ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma JANČA Jan
Rok publikování	2000
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Czechoslovak Journal of Physics
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Popis	Characterization of CNx/SiOy thin films prepared in the inductively coupled radio-frequency discharge.
Související projekty:	Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek