Influence of discharge and substrate parameters on PECVD of TEOS/argon mixtures

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Vliv výboje a parametrů substrátu na PECVD ve směsi TEOS/argon
Autoři	ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma JANČA Jan
Rok publikování	1997
Druh	Článek ve sborníku
Konference	ICPIG XXIII
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Popis	Influence of discharge and substrate parameters on PECVD of TEOS/argon mixtures
Související projekty:	Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek