Nucleation and initial growth of atomic layer deposited titanium oxide determined by spectroscopic ellipsometry and the effect of pretreatment by surface barrier discharge

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	CAMERON David Campbell KRUMPOLEC Richard IVANOVA Tatiana HOMOLA Tomáš ČERNÁK Mirko
Rok publikování	2015
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Applied Surface Science
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
www	http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S016943321500731X
Doi	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2015.03.135
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	Atomic layer deposition; Spectroscopic ellipsometry; Quantum confinement effects; Nucleation density
Popis	This paper reports on the use of spectroscopic ellipsometry to characterise the initial nucleation stage of the atomic layer deposition of the anatase phase of titanium dioxide on silicon substrates.
Související projekty:	CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy Zaměstnáním čerstvých absolventů doktorského studia k vědecké excelenci Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy